鍍膜產業

真空鍍膜是指在高真空環境狀態下，利用物理方法在物件的表面鍍上一層薄膜的技術。

真空鍍膜技術PVD(Physical vapor deposition)物理氣相沉積技術，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在物件上的薄膜製作技術。主要方法包括蒸鍍、濺鍍和離子鍍；和化學氣相沉積相比，物理氣相沉積適用範圍較廣泛。

✽蒸鍍：(Evaporative PVD)在高真空的腔體中，利用電熱絲或電子束加熱升溫達到熔化、氣化的溫度後，使材料蒸發並附著在物件表面上的技術。

✽濺鍍：(Sputtering PVD)是在真空條件下通入惰性氣體，利用高電壓場作用將高能量粒子打到靶材表面，將靶材表面的物質測出附著堆積在物件或薄膜上。

✽離子鍍：(Ion Plating PAPVD）

★適用產品：(可點選連結到產品介紹頁籤)